SVR Topialyse Protect+ Balm Portugal

SVR Topialyse Protect+ Balm é um produto hipoalergénico e dermatologicamente testado que foi especialmente desenvolvido para peles sensíveis secas a muito secas com tendência atópica. Graças à sua poderosa ação reparadora e calmante, este bam é capaz de combater a secura severa, vermelhidão, tensão e coceira. De fato, após cada aplicação, você desfrutará não apenas de um alívio instantâneo, mas também de um efeito hidratante que dura até 48 horas.

Além disso, o Topialyse Protect+ Balm tem uma ação protetora inovadora. A pele com tendências atópicas permite que os agressores externos penetrem mais facilmente, o que não só cria irritação, mas também retarda o processo de reparação. Enriquecido com Ceramida Patenteada, este bálsamo fornece proteção contra fatores nocivos, como ácaros ou poluição. Ainda mais, com textura relipidante, a fórmula derrete na pele e deixa uma película protetora na superfície.

Como última nota, o Topialyse Protect+ Balm tem uma composição não gordurosa e não pegajosa que não cria uma sensação de formigueiro. Feito com apenas 20 ingredientes, este bálsamo é adequado tanto para o corpo como para o rosto e é perfeito para toda a família!

Principais ingredientes

* A Care to Beauty atualiza as listas de ingredientes de cada produto periodicamente. No entanto, a lista de ingredientes pode ser alterada pelas marcas sem aviso prévio. Leia sempre a lista de ingredientes na embalagem do seu produto antes de utilizar.

• Ceramidas patenteadas protegem a pele dos efeitos nocivos dos ácaros na degradação da barreira cutânea. Ainda mais, este componente fornece igualmente os lípidos necessários para secar a pele e prevenir a perda de água;
• O ingrediente ativo calmante acalma a pele e restaura sua barreira natural. Além disso, fornece umidade, mantém a microbiota da pele e reduz a coceira;
• O Óleo de Coco é rico em Ômega 6 e 9 e possui propriedades nutritivas, protetoras e suavizantes;
• A Manteiga de Babaçu também é um ingrediente nutritivo que conforta a pele.